1. 酸性媒体における耐性閾値
希塩酸: モネル 400 は室温で、ある濃度の塩酸に対して腐食に耐えます。10%以下長期的なサービスのために。-腐食速度は0.1 mm/年未満であり、工業用途の基準を満たしています。
濃塩酸:濃度が10%を超えると腐食速度が著しく増加します。室温では、20% 塩酸は 0.5 mm/年を超える腐食速度を引き起こします。沸騰した濃塩酸は合金に深刻な孔食や均一な腐食を引き起こします。
温度の影響:温度が10度上昇するごとに腐食速度は2倍になります。たとえば、モネル 400 は 25 度では 10% の HCl に耐えられますが、60 度では同じ濃度で明らかな腐食が発生します。
希硫酸(20%以下、還元): 室温では、モネル 400 は良好な耐性を持ち、腐食速度は < 0.1 mm/年です。希硫酸の貯蔵タンクやパイプラインの製造に使用できます。
中濃度 (20% ~ 60%): 腐食速度が急激に上昇するため、この合金は長期使用には推奨されません。{0}}
Concentrated sulfuric acid (>90%、酸化): 室温では合金表面に不動態皮膜が形成されるため、モネル 400 は短期間の暴露には耐えられますが、長期使用後の腐食速度は 0.2 mm/年を超えます。これは継続的な使用には適していません。-
酸化剤の影響: 硫酸中に酸化剤 (Fe3+、Cu2+、HNO3 など) が存在すると、モネル合金の腐食が促進されます。
2. アルカリ性媒体の耐性閾値
室温: モネル 400 は、水酸化ナトリウム溶液に耐えることができます。任意の濃度(湿気と接触する 50% 濃縮アルカリ液および固体苛性ソーダを含む)-、腐食速度 < 0.01 mm/年。
高温:沸騰温度において、ある濃度のNaOH溶液中で腐食に耐えることができます。50%以下。濃度が 50% を超え、温度が 100 度を超えると、わずかな均一腐食が発生しますが、腐食速度は依然として 0.1 mm/年未満であり、ほとんどの産業シナリオでは許容可能です。
不純物の影響: 灰汁中に塩化物イオン (Cl-) が存在すると、孔食のリスクが高まるため、Cl- 含有量は 100 ppm 未満に制御する必要があります。
3. 重要な注意事項
温度は重要な要素です: 上記の許容しきい値は、以下に基づいています。室温(20~25度)。温度が高くなると、酸性媒体とアルカリ性媒体の両方においてモネル合金の耐食性が大幅に低下します。
酸化性の酸性環境を避ける:モネル合金は、硝酸、酸化剤を含む濃硫酸、酸化成分を含む混酸中での使用には適しません。
塩化物イオン感受性: Cl⁻含有量の高い酸性またはアルカリ性媒体では、合金の孔食や応力腐食割れの防止に注意してください。









