1. 化学組成（コアの特徴）
C11000: 超低酸素含有量(-<0.001%) and no intentional alloying elements. Impurities (Fe, Pb, Zn, Ni) are strictly controlled to ensure purity.
C12200: 「リン-脱酸銅」または「DHP 銅」（脱酸高リン）とも呼ばれます。製錬中に酸素を除去するためにリンが添加され、適度な酸素含有量 (0.02 ～ 0.04%) になります。
2. 酸素含有量の分類と関連特性
水素脆化のリスク:
C11000: 水素脆化に対する耐性があり、高温真空または水素を含む用途（真空管、半導体装置など）-に適しています-。
C12200: Vulnerable to hydrogen embrittlement if exposed to hydrogen at temperatures >300 度（水素ガスを使用する熱交換器など）では、リンは極端な条件下では酸素関連のリスクを完全に排除できないため、-。
3. 機械的および物理的特性
重要なポイント:
C11000にはより良い電気/熱伝導性純度が高く、酸素含有量が極めて低いため、最大のエネルギー伝達を必要とする用途（導電体、バスバーなど）には非常に重要です。{0}{1}
C12200 の特典強度と硬度がわずかに高いリンの存在により、機械的応力がかかる用途 (配管継手、バルブなど) での耐久性が向上します。
4. 加工・製作
5. 規格への準拠
6. 典型的なアプリケーション (業界固有)
7. コストと可用性
C11000: 製錬プロセス（無酸素製造）と純度要件が厳格化されるため、コストが高くなります。{0}}通常、高性能用途向けに特殊な形状（極薄シート、精密ワイヤなど）で入手可能です。-
C12200: コストが低く、より広く入手可能です (標準的な商用銅)。最大の導電性や耐水素性が必要とされない汎用用途に適しています。-
